崔馨元,趙 瑞,陳俊琴
(沈陽農(nóng)業(yè)大學(xué)園藝學(xué)院,沈陽 110161)
穴盤育苗是現(xiàn)代工廠化育苗的核心技術(shù),具有省工、省力、節(jié)約能源等優(yōu)點(diǎn),但在穴盤育苗條件下,容易造成穴盤苗徒長,導(dǎo)致成苗質(zhì)量下降[1]。抑制穴盤苗徒長的措施有很多,可分為非環(huán)境調(diào)節(jié)和環(huán)境調(diào)節(jié),目前常采用的措施是化學(xué)防治,不僅污染環(huán)境,而且農(nóng)藥殘留對(duì)產(chǎn)品和環(huán)境的污染問題突出。許多研究表明,紫外(UV)輻射增強(qiáng)對(duì)植物株高有明顯的抑制作用[2-4],適當(dāng)劑量的紫外線不僅可以使植株健壯[5-6],還可以防治病害[7]??蓪V照射手段引入穴盤苗栽培管理,以達(dá)到防止穴盤苗徒長、培育壯苗的目的。UV輻射在黃瓜上的應(yīng)用,已有大量報(bào)道,普遍的結(jié)論是同時(shí)抑制莖葉和根系生長,基本上都是出于環(huán)保目的開展研究,有關(guān)UV輻射增強(qiáng)對(duì)黃瓜穴盤苗的生長發(fā)育及質(zhì)量的研究還未見報(bào)道。本試驗(yàn)從不同波段UV輻射對(duì)黃瓜穴盤苗的影響入手,研究黃瓜穴盤苗的形態(tài)指標(biāo)和生化指標(biāo)變化,尋求最佳的UV波段,為黃瓜工廠化育苗中壯苗培育提供理論依據(jù)。
供試黃瓜品種為露地二號(hào),采用沈陽農(nóng)業(yè)大學(xué)無土育苗營養(yǎng)基質(zhì)和50孔穴盤進(jìn)行育苗。UV-100型12 W手提式紫外燈(柏照儀器有限公司),燈管中心波長分別為 365 nm(UV-A),302 nm(UV-B),254 nm(UV-C)。試驗(yàn)時(shí)將紫外燈懸于各處理穴盤上方50 cm處。
試驗(yàn)于2008年3月中旬在沈陽農(nóng)業(yè)大學(xué)蔬菜基地日光溫室內(nèi)進(jìn)行。試驗(yàn)設(shè)3個(gè)處理1個(gè)對(duì)照,處理 1(T1:UV-A 輻射增強(qiáng) 0.11 J·m-2·s-1),處理2(T2:UV-B 輻射增強(qiáng) 0.11 J·m-2·s-1),處理 3(T3:UV-C 輻射增強(qiáng) 0.11 J·m-2·s-1),對(duì)照(CK:不進(jìn)行UV輻射處理)。日光溫室內(nèi)自然光照射時(shí)間為8 h,空氣濕度為60%,常規(guī)穴盤育苗。UV照射于黃瓜穴盤苗一葉一心時(shí)開始,三葉一心時(shí)結(jié)束,每天20:00至23: 00照射3 h。每處理3盤,5次重復(fù),共12個(gè)小區(qū),采用隨機(jī)區(qū)組排列。
1.2.1 黃瓜穴盤苗生長指標(biāo)測(cè)定
于黃瓜穴盤苗三葉一心時(shí)取樣,每個(gè)處理取5株,5次重復(fù),下同。
測(cè)定株高、莖粗、全株干鮮重、葉面積,并根據(jù)公式計(jì)算壯苗指標(biāo)、G值和根冠比。
壯苗指數(shù)=(莖粗/株高)×全株干重[8];G 值=全株干重/育苗天數(shù);根冠比=地下部干重/地上部干重。
1.2.2 黃瓜穴盤苗生理指標(biāo)測(cè)定
黃瓜根系活力測(cè)定采用甲烯藍(lán)法,葉綠素含量測(cè)定采用丙酮乙醇(1:1)混合液法。
1.2.3 黃瓜穴盤苗光合作用測(cè)定
用LI-6400光合系統(tǒng)(LI-COR)測(cè)定,包括凈光合速率(Pn)、胞間 CO2濃度(Ci)、蒸騰速率(Ts)、氣孔導(dǎo)度(Gs)。
從表1可以看出,黃瓜穴盤苗在UV輻射增強(qiáng)條件下,波長越短株高降低越明顯。在常規(guī)穴盤育苗條件下CK徒長明顯,其中T1與CK相比株高降低3.74%,差異不顯著,T2和T3處理分別降低16.63%和23.27%,差異顯著。這表明UV-B和UV-C輻射能有效抑制黃瓜株高,達(dá)到矮化目的。除T1與CK相比莖粗減少顯著外,其他處理莖粗減少不明顯。經(jīng)UV照射后,各處理黃瓜葉面積明顯減少,其中T2和T3處理與對(duì)照在α=0.05水平均達(dá)到顯著水平,這是因?yàn)辄S瓜對(duì)UV增強(qiáng)的適應(yīng)性主要是通過改變形態(tài)結(jié)構(gòu),如葉片變厚、植株矮化等來調(diào)節(jié)的。經(jīng)UV輻射后,T2、T3處理全株鮮重降低明顯,T3處理干重降低明顯,這表明UV-C輻射阻礙黃瓜的干物質(zhì)積累。
表1 不同處理對(duì)生長發(fā)育指標(biāo)的影響Table 1 Effect of different treatments on growth index
由表2可知,不同波段的UV輻射對(duì)黃瓜穴盤苗的壯苗指標(biāo)影響不同。經(jīng)UV處理后,與CK相比只有T2處理的壯苗指數(shù)和根冠比的提高達(dá)顯著水平,G值變化不明顯。其中UV-A輻射與對(duì)照相比無明顯變化;UV-C輻射提高了黃瓜穴盤苗的壯苗指數(shù),降低了G值和根冠比,UV-B輻射全面提高了黃瓜穴盤苗的各項(xiàng)壯苗指標(biāo)。
表2 不同處理對(duì)壯苗指標(biāo)的影響Table 2 Effect of different treatments on exponent of stern seedling
由表3可知,UV輻射降低了植物根系活力的各項(xiàng)指標(biāo)。各處理中T3處理的根系總吸收面積、活躍吸收面積和活躍吸收比與CK相比降低達(dá)顯著水平,分別降低了4.01%、7.21%和3.32%,T1和T2處理各項(xiàng)根活指標(biāo)降低未達(dá)顯著水平,這表明3個(gè)處理中,UV-C輻射抑制了黃瓜根系生長,UVA和UV-B輻射對(duì)黃瓜根系生長影響不明顯。
由此可知,在UV輻射3個(gè)波段中UV-A輻射不能抑制穴盤苗徒長,UV-B和UV-C輻射可以抑制穴盤苗徒長。但UV-C輻射阻礙黃瓜的干物質(zhì)積累,降低了G值和根冠比,抑制黃瓜根系生長,因而UV-B為最佳的輻射波段。
表3 不同處理對(duì)根系活力的影響Table 3 Effect of different treatments on root system activity
結(jié)果見表4。
由表4可知,氣孔導(dǎo)度、胞間CO2濃度和蒸騰速率三種指標(biāo)的趨勢(shì)基本相同,CK>T1>T2>T3。UV輻射處理后,穴盤苗氣孔導(dǎo)度變小,胞間CO2濃度隨之降低,蒸騰速率減緩,為光合作用提供的原料變少。凈光合速率的變化趨勢(shì)為CK>T2>T1>T3。與以上三種指標(biāo)變化趨勢(shì)稍有不同,說明凈光合速率不僅受光合速率影響,還與其他因素相關(guān),表1中全株干重的變化趨勢(shì)與凈光合速率的變化趨勢(shì)一致,驗(yàn)證了這一結(jié)果。UV輻射提高了黃瓜葉片內(nèi)葉綠素含量,說明適當(dāng)劑量的UV輻射有利于黃瓜葉片內(nèi)葉綠素的形成。
表4 不同處理對(duì)光合作用的影響Table 4 Effect of different treatments on photosynthesis
在UV輻射3個(gè)波段中,UV-B輻射波段抑制黃瓜穴盤苗的株高,比對(duì)照降低16.63%,壯苗指標(biāo)和根冠比為最高,同時(shí)葉綠素含量升高,對(duì)根系活力和光合作用影響不大。而UV-A輻射不能抑制穴盤苗徒長,UV-C輻射雖然株高比對(duì)照降低23.27%,但干物質(zhì)含量比對(duì)照下降12.57%,G值和根冠比低于對(duì)照,同時(shí)抑制黃瓜根系生長。UV輻射降低黃瓜穴盤苗的光合作用,提高了葉綠素含量。因而UV-B為矮化壯苗的最佳輻射波段。而UV-B輻射在黃瓜育苗過程中的照射時(shí)間和照射時(shí)長有待進(jìn)一步研究。
UV輻射對(duì)植物株高有抑制作用,這一結(jié)果已被廣泛認(rèn)可。研究表明,UV輻射增強(qiáng)對(duì)植物株高的抑制作用隨UV輻射增強(qiáng)而愈加明顯[2],其作用主要是通過抑制節(jié)間伸長來實(shí)現(xiàn)的[3]。也有研究表明,UV輻射增強(qiáng)導(dǎo)致節(jié)間縮短是由于細(xì)胞數(shù)目的減少,而不是細(xì)胞長度的變短[4]。本試驗(yàn)中,黃瓜穴盤苗在UV輻射增強(qiáng)條件下,株高降低,且波長越短,降低越明顯,這與李曼華的研究結(jié)果一致[2]。UV-A對(duì)植物的株高影響不明顯,UV-B和UV-C抑制效果顯著,這可能是因?yàn)樵谧匀画h(huán)境中,只有UV-A和少量的UV-B輻射能夠到達(dá)地面,所以補(bǔ)充照射自然光中所缺少的UV-B和UV-C波段對(duì)植物的影響明顯。
UV輻射能夠抑制許多植物的光合作用。研究表明,UV輻射破壞光系統(tǒng)Ⅱ的反應(yīng)中心,產(chǎn)生光抑制,使葉綠體的放氧活性下降,從而降低植物葉綠素(Chl)含量,且葉綠素a的降幅大于葉綠素b[8],同時(shí)UV輻射使葉片氣孔部分關(guān)閉,導(dǎo)致光合作用能力降低。孫令強(qiáng)等以黃瓜幼苗為材料,研究UVB輻射對(duì)黃瓜幼苗生長和光合作用的影響[10]。結(jié)果表明,低劑量UV-B輻射(0.05 J·m-2·s-1)明顯促進(jìn)黃瓜幼苗根的生長和根系活力加強(qiáng),有利于黃瓜葉綠素的形成;但是高劑量的 UV-B 輻射(0.24 J·m-2·s-1)抑制黃瓜幼苗根系活力,對(duì)黃瓜幼苗葉綠素的破壞嚴(yán)重并導(dǎo)致光合速率下降。說明適當(dāng)增加少量UVB輻射對(duì)培育黃瓜壯苗有利。本試驗(yàn)UV輻射劑量是0.11 J·m-2·s-1,抑制黃瓜穴盤苗根的生長和根系活力,UV-C波段尤為明顯;UV輻射抑制黃瓜穴盤苗的光合作用,但促進(jìn)葉綠素的生成。
一般而言,UV輻射增強(qiáng)花粉萌發(fā)和花粉管伸長會(huì)受到抑制作用,但也有花粉萌發(fā)受UV的促進(jìn)的報(bào)道。Torabinejad等通過對(duì)34種花粉的研究發(fā)現(xiàn),單子葉植物花粉比雙子葉植物花粉敏感,野外植物的花粉比室內(nèi)植物花粉敏感[11]。
本試驗(yàn)中,沒有對(duì)UV輻射后的穴盤苗進(jìn)行定植,在后續(xù)試驗(yàn)中應(yīng)進(jìn)行定植后效應(yīng)的研究,包括UV輻射對(duì)黃瓜花芽分化、發(fā)育和性型分化的影響。
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